光學冷加工知識科普大全

光學冷加工工藝

第1道：銑磨，是去除鏡片表面凹凸不平的氣泡和雜質,(約0.05-0.08)起到成型作用.

第2道 精磨，是將銑磨出來的鏡片將其的破壞層給消除掉,固定R值.

第3道 拋光，是將精磨鏡片再一次拋光,這道工序主要是把外觀做的更好。

第4道 清洗，是將拋光過后的鏡片將其表面的拋光粉清洗干凈.防止壓克.

第5道 磨邊，是將原有鏡片外徑將其磨削到指定外徑。

第6道 鍍膜，是將有需要鍍膜鏡片表面鍍上一層或多層的有色膜或其他膜

第7道 涂墨，是將有需要鏡片防止反光在其外袁涂上一層黑墨.

第8道 膠合，是將有2個R值相反大小和外徑材質一樣的鏡片用膠將其聯合.

特殊工序:多片加工(成盤加工)和小球面加工(20跟軸)線切割

根據不同的生產工藝，工序也會稍有出入，如涂墨和膠合的先后次序。

（圖源網絡，侵刪）

玻璃鏡片拋光工藝

用拋光機和拋光粉或拋光液一起下進行拋光要設定拋光時間,壓力等參數. 拋光后要立即進行清洗可浸泡,否則拋光粉會固化在玻璃上,會留有痕跡的.

1.拋光粉的材料

拋光粉通常由氧化鈰、氧化鋁、氧化硅、氧化鐵、氧化鋯、氧化鉻等組份組成，不同的材料的硬度不同，在水中的化學性質也不同，因此使用場合各不相同。氧化鋁和氧化鉻的莫氏硬度為9，氧化鈰和氧化鋯為7，氧化鐵更低。氧化鈰與硅酸鹽玻璃的化學活性較高，硬度也相當，因此廣泛用于玻璃的拋光。

為了增加氧化鈰的拋光速度，通常在氧化鈰拋光粉加入氟以增加磨削率。鈰含量較低的混合稀土拋光粉通常摻有3-8的氟;純氧化鈰拋光粉通常不摻氟。

對ZF或F系列的玻璃來說，因為本身硬度較小，而且材料本身的氟含量較高，因此應選用不含氟的拋光粉為好。

2.氧化鈰的顆粒度

粒度越大的氧化鈰，磨削力越大，越適合于較硬的材料，ZF玻璃應該用偏細的拋光粉。要注意的是，所有的氧化鈰的顆粒度都有一個分布問題，平均粒徑或中位徑D50的大小只決定了拋光速度的快慢，而最大粒徑Dmax決定了拋光精度的高低。因此，要得到高精度要求，必須控制拋光粉的最大顆粒。

3. 拋光粉的硬度

拋光粉的真實硬度與材料有關，如氧化鈰的硬度就是莫氏硬度7左右，各種氧化鈰都差不多。但不同的氧化鈰體給人感覺硬度不同，是因為氧化鈰拋光粉通常為團聚體。當然，有的拋光粉中加入氧化鋁等較硬的材料，表現出來的磨削率和耐磨性都會提高。

4. 拋光漿料的濃度

拋光過程中漿料的濃度決定了拋光速度,濃度越大拋光速度越高。使用小顆粒拋光粉時，漿料濃度因適當調低

鏡片拋光

光學鏡片經過研磨液細磨后，其表面尚有厚約 2–3 m 的裂痕層，要消除此裂痕層的方法即為拋光。拋光與研磨的機制一樣，唯其所使用的工具材質與拋光液 (slurry) 不同，拋光所使用的材料有絨布 (cloth)、拋光皮 (polyurethane) 及瀝青 (pitch)，通常要達到高精度的拋光面，最常使用的材料為高級拋光瀝青。利用瀝青來拋光，是藉由瀝青細致的表面，帶動拋光液研磨鏡片表面生熱，使玻璃熔化流動，熔去粗糙的頂點并填平裂痕的谷底，逐漸把裂痕層除去。

目前拋光玻璃鏡片所使用的拋光粉以氧化鈰 (CeO2) 為主，拋光液調配的比例依鏡片拋光時期不同而有所不同，一般拋光初期與和拋光模合時使用濃度較高的拋光液，鏡片表面光亮后，則改用濃度較稀的拋光液，以避免鏡面產生橘皮現象 (鏡片表面霧化)。

拋光與研磨所用的運動機構相同，除了拋光的工具與工作液體不一樣外，拋光時所需環境條件亦較研磨時嚴苛。一般拋光時要注意的事項如下：

拋光瀝青的表面與拋光液中不可有雜質，不然會造成鏡面刮傷。

拋光瀝青表面要與鏡片表面吻合，否則拋光時會產生跳動，因而咬持拋光粉而刮傷鏡片表面。

拋光前必須確定鏡片表面是否有研磨后所留下的刮傷或刺孔。

拋光工具的大小與材質是否適當。

瀝青的軟硬度與厚度是否適當。

拋光的過程中必須隨時注意鏡片表面的狀況及精度檢查。透鏡表面瑕疵的檢查，因為檢測的過程是憑個人視覺及方法來判斷，所以檢驗者應對刮傷及砂孔的規范有深刻的認知，要經常比對刮傷與砂孔的標準樣版，以確保檢驗的正確性。

光學冷加工工藝資料的詳細描述(工藝過程老化)

1.　 拋光粉

1.1 對拋光粉的要求

a.　 顆粒度應均勻，硬度一般應比被拋光材料稍硬;

b.　 拋光粉應純潔，不含有可能引起劃痕的雜質;

c.　 應具有一定的晶格形態和缺陷，并有適當的自銳性;

d.　 應具有良好的分散性和吸附性;

e.　 化學穩定性好，不致腐蝕工件。

1.2 拋光粉的種類和性能

常用的拋光粉有氧化鈰(CeO2)和氧化鐵(FeO3)。

a.　 氧化鈰拋光粉　顆粒呈多邊形，棱角明顯，平均直徑約2微米，莫氏硬度7～8級， 比重約為7.3。由于制造工藝和氧化鈰含量的不同，氧化鈰拋光粉有白色(含量達到98% 以上)、淡黃色、棕黃色等。

b.　 氧化鐵拋光粉 俗稱紅粉，顆粒呈球形，顆粒大小約為0.5～1微米，莫氏硬度4～7 級，比重約為5.2。顏色有從黃紅色到深紅色若干種。

綜上所述，氧化鈰比紅粉具有更高的拋光效率，但是對表面光潔度要求高的零件，還是使用紅粉拋光效果較好。

2.　 拋光模層(下墊)材料 )常用的拋光模層材料有拋光膠和纖維材料。

2.1 拋光膠

拋光膠又名拋光柏油，是由松香、瀝青以不同的組成比例配制而成，用于光學零件的精密拋光。

2.2 纖維材料

在光學工件的拋光中，若對拋光面的面形精度(光圈)要求不高時，長采用呢絨、毛氈及其它纖維物質作為拋光模層的材料。

3.　 常用測試儀器

光學零件的某些質量指標，如透鏡的曲率半徑、棱鏡的角度，需要用專門的測試儀器來測量。常用的儀器有：光學比較側角儀、激光平面干涉儀、球徑儀和刀口儀等。

4.　 拋光

在拋光過程中添加拋光液要適當。太少了參與作用能夠的拋光粉顆粒減少，降低拋光效率。太多了，有些拋光粉顆粒并不參與工作，同時也帶來大量液體使玻璃邊面的溫度下降，影響拋光效率。拋光液的濃度也要適當，濃度太低，即水分太多，參與工作的拋光粉顆粒減少并使玻璃表面溫度降低，因此降低拋光效率。濃度太高，即水分帶少，影響拋光壓力，拋光粉不能迅速散布均勻，導致各部壓力不等，造成局部多磨，對拋光的光圈(條紋)質量有影響。而且單位面積壓力減少，效率降低，拋光過程中產生的碎屑也不能順利排除，使工件表面粗糙。一般是開始拋光時拋光液稍濃些，快完工時，拋光液淡些，添加次數少些，這有利于提高拋光效率和光潔度。另外，一般認為拋光液的酸度(pH值)應控制在6～8之間，否則玻璃表面會被腐蝕，影響表面光潔度。

在拋光過程中檢查光圈(條紋)時，如不合格，可以通過調整拋光機的轉速和壓力、工件與模具(拋光機下盤)的相對速度、相對位移、擺速和修整拋光模層等方法進行修改。

a.提高主軸轉速，能增加邊緣部位與上模接觸區域的拋光強度。經驗證明，若速度過高，拋光表面溫度升高，從而使拋光模層硬度降低，影響修改光圈(條紋)的效果。

b.增加荷重以加大壓力時，可提高整個拋光模和工件間接觸區域的拋光強度，也將使拋光表面的溫度升高，降低拋光模層的硬度。

c.加大鐵筆(上盤主軸)的位移量，可使上盤的中間部位和下盤的邊緣部位同時得到修整。

d.加大擺幅長度，增加擺軸速度會使上盤的中間部位和下盤的邊緣部位加速拋光。

e.刮槽是減少開槽部分的壓力承受面和摩擦面，因此拋光下盤在開槽部分的拋光效力降低。反之，未開槽部分的拋光效力有所增大。均勻開槽時，能使拋光下盤的流動性適合與工件表面的曲率。同時，既能使拋光液含量增加，容易滲入拋光下盤面而增加拋光效力，又能減輕拋光機傳動負荷。

綜上所述，為了控制和穩定拋光條件，工作場地應保持較為穩定的溫度(25°C左右)和濕度(相對濕度為60～70%)。

研磨或拋光對光學鏡片腐蝕的影響

光學玻璃腐蝕是伴隨著光學玻璃拋光及拋光下盤以后的全過程,它受拋光粉及拋光用水的酸堿度以及拋光液使用時間延續趨于呈堿性及周圍環境中潮濕空氣、酸性氣體等因素影響而產生的一種化學腐蝕。因此,可以認為光學玻璃腐蝕是一個化學過程,如果僅僅停留在拋光下盤以后,采用若干防護措施,顯然是不夠的。應在拋光過程中就采取必要的防護措施。

ZF、ZBaF、LaK等光學玻璃在拋光過程中及拋光下盤以后的腐蝕問題,長期以來一直影響著這些光學玻璃零件的加工質量和生產效率。通過對光學玻璃在拋光過程中穩定性課題的研究和生產實驗,研制并篩選出比較理想的光學玻璃拋光添加劑;即在這些化學穩定性差的光學玻璃拋光液中,添加適當的pH值調節劑及表面穩定劑,減少了ZK、ZF、ZBaF、LaK等系列化學穩定性差的光學玻璃在拋光過程中的腐蝕問題,顯著提高了拋光表面質量和合格率,并進一步提高了光學玻璃零件加工的效率和效益及其工藝技術水平.

一、引言

光學玻璃腐蝕是伴隨著光學玻璃拋光及拋光下盤以后的全過程,它受拋光粉及拋光用水的酸堿度以及拋光液使用時間延續趨于呈堿性及周圍環境中潮濕空氣、酸性氣體等因素影響而產生的一種化學腐蝕。因此,可以認為光學玻璃腐蝕是一個化學過程,如果僅僅停留在拋光下盤以后,采用若干防護措施,顯然是不夠的。應在拋光過程中就采取必要的防護措施。隨著中高檔光學儀器需求量的增加,ZK、ZF、ZBaF、 LaK等化學穩定性差的光學玻璃應用比較普遍,因此,光學玻璃在加工過程中的腐蝕問題,顯得更為突出。光學玻璃的腐蝕是一個化學過程。依照光學玻璃在拋光過程中的化學作用這一基本思路,除選擇合理的工藝參數外,對光學玻璃在拋光過程中產生腐蝕問題采取積極的防護措施:即在拋光液中添加適當的pH值調節劑和表面穩定劑,為光學玻璃拋光創造一個良好的工藝條件;再在拋光下盤以后,采取若干防護措施,提高化學穩定性差的光學玻璃防腐蝕的可靠性,基本上可解決與光學玻璃加工相伴而行的化學腐蝕問題,取得較好的效果。

二、光學玻璃腐蝕及其表象光學玻璃的耐水性及耐周圍環境酸、堿等不同介質的侵蝕,主要取決于光學玻璃化學穩定性,這與不同光學玻璃組成結構及SiO2的含量有關。但在光學玻璃拋光過程中的腐蝕,更直接原因則是受拋光液的酸、堿性的影響;拋光下盤以后,則是受周圍潮濕空氣及帶酸性氣體等因素的影響。玻璃的水解作用,可以看成是水與玻璃表面硅酸鹽發生水合和水解作用反應,使玻璃表面堿金屬或堿土金屬離子置換出來,結果在玻璃表面形成硅酸凝膠、氫氧化物、碳酸鹽等。即Na2SiO3+2H2O=H2SiO3+2NaOH

2NaOH+CO2=Na2CO3+H2O

BaSiO3+2H2O=H2SiO3+Ba(OH)2

溶液呈現堿性時形成的硅酸凝膠薄膜減緩水的侵蝕作用。但硅酸凝膠薄膜往往呈多孔狀或因龜裂而產生裂紋,于是富集在溶液中的堿就會進一步侵蝕玻璃的網絡體,使玻璃結構遭到破壞。如果SiO2含量高,形成的硅氧四面體[SiO4]相互連接程度大,鍵數多,鍵能強,網絡結構堅固,不易被水侵蝕。因此,SiO2含量高的光學玻璃化學穩定性就好;反之SiO2含量低,而堿金屬或堿土金屬氧化物含量高的光學玻璃化學穩定性就差,極易被腐蝕。腐蝕的結果:輕則改變玻璃表面組成,產生氫氧化物、硅酸凝膠,甚至碳酸鹽的覆蓋物;重則玻璃的網絡結構遭到腐蝕破壞。這里以腐蝕現象嚴重的ZF6、ZBaF3等光學玻璃為例: ZF6、ZBaF3這兩種光學玻璃SiO2的含量均在30%左右,同時耐水性差PbO、BaO的含量大大超過一般光學玻璃,它本身的組成結構就決定其化學穩定性差。ZF6光學玻璃的PbO含量高達65%以上,玻璃的耐水性顯著降低,這就可能在拋光過程中受水或拋光下盤以后受潮濕空氣侵蝕,其表面則有Pb(OH)2生成。即

PbSiO3+H2O=Pb(OH)2+H2SiO3

Pb(OH)2是一個很弱的堿,或者說是一個兩性化合物,在水中溶解度極小,屬微溶性化合物,水解溶液中OH-離子很少。因此,ZF玻璃遇水后腐蝕緩慢,情況并不嚴重;但受還原性物質NaSiO3的影響,這類高鉛玻璃表面出現“鉛膜”,玻璃表面呈昏暗的霧狀膜.ZBaF3光學玻璃的BaO含量高達46%以上,ZK11光學玻璃的BaO含量高達48 9%,這些玻璃的耐水性顯著降低,這就可能在拋光過程中受水或拋光下盤以后吸收帶有酸性氣體的潮濕空氣而受到侵蝕,使Ba++離子產生易溶于水或酸性的物質;這類玻璃水解時有Ba(OH)2生成。

BaSiO3+ 2H2O=Ba(OH)2+H2SiO3

Ba(OH)2+H2CO3(H2O+CO2)=BaCO3+ 2H2O

Ba(OH)2是一個比Ca(OH)2更強的堿,在水中溶解度也比 Ca(OH)2較大,這就意味著ZK、LaK的玻璃水解溶液中有大量的OH-離子存在,而OH-離子對玻璃網絡體中的Si-O鍵進行親核Siδ+Oδ- OH-進攻,使SiO鍵斷裂。同時,玻璃水解后氫氧化物吸收空氣中或水中的CO2,則生成碳酸鹽2NaOH+CO2=NaCO3+H2O這時NaOH和NaCO3溶液也構成對玻璃的腐蝕,特別是由于NaCO3的反?，F象,對玻璃的腐蝕更為嚴重,并破壞玻璃立體的網絡結構。同時,在拋光過程中由于玻璃的不斷水解,產生出來的堿使拋光液的pH值不斷上升,化學穩定性差的光學玻璃使拋光液的pH值上升更快,有時甚至達到pH值8 5～9的平衡值。拋光液呈堿性后有大量的OH-離子存在,也就產生前述的OH-離子對玻璃網絡結構中的Si-O鍵的親核進攻,使SiO鍵斷裂,玻璃主體的網絡結構受到破壞,造成玻璃的嚴重腐蝕。如前所述,水對玻璃的腐蝕過程中把玻璃中的堿金屬或堿土金屬離子置換出來,在生成氫氧化物的同時玻璃表面也生成硅酸凝膠或碳酸鹽等。它們在玻璃表面形成不規則的厚薄不均的干涉薄膜或斑痕,在反射光下有的形狀與顏色像飄浮在水面上的“油斑”,有的似天空中灰薄云層的“暗斑”“水印”或“灰路子”“白斑”等等。這些薄膜或斑痕表象各異,叫法不同,但都是光學玻璃拋光表面受水、酸、堿等介質不同程度侵蝕的結果。據認為:青色斑點是基于玻璃表面各種金屬離子(如K+、Na+、Ca++等)的逸出而形成不規則的多孔性的硅酸薄膜,有時也有極小量的各種金屬離子鹽類的微晶。由于表面厚度的不均勻性產生不同的干涉顏色,甚至呈現彩虹色膜。而白色斑點則是基于玻璃表面各種金屬離子(如K+、Na+、Ca++、Ba++、Pb++等)逸出形成硅酸薄膜的同時,還有大量的氫氧化物、碳酸鹽、硫酸鹽等微小結晶生成。當把玻璃表面的白斑去掉以后,它下面則又可以看到青斑了?？梢哉J為:光學玻璃在拋光過程中或拋光下盤以后,在它表面出現的油膜或斑點是由于玻璃受水或其它介質侵蝕而在玻璃表面產生的硅酸凝膠、氫氧化物、碳酸鹽等的覆蓋物。就其本質而言,這是一種化學腐蝕現象。

三、光學玻璃在拋光過程中的防護措施根據以上討論,光學玻璃受腐蝕的程度,可以歸結為:光學玻璃的組成結構,構成玻璃材料本身的化學穩定性及當時所處的環境,即接觸的水、酸、堿等介質這兩個主要因素。而要改變光學玻璃組成結構,以改善其物理化學性能,勢必影響其光學性能,這就失去采用此類玻璃的實際意義了。只有在加工過程中改善其外部條件才是可行的。在拋光過程中由于拋光液的酸堿性或拋光液使用時間的延續拋光液呈堿性等情況,都是可能的。依照光學玻璃在拋光過程的化學作用的基本觀點,認為拋光液的pH值呈現弱酸性和中性對玻璃的腐蝕甚小,有利于提高拋光速率和表面粗糙度;但隨著拋光過程的延續,拋光液連續使用時間過長,其拋光液的 pH值呈上升趨勢,即呈現堿性。這是因為玻璃中的堿金屬或堿土金屬離子不斷溶入拋光液。高速拋光的拋光液循環使用比較明顯。即使古典法拋光、用毛筆蘸點拋光液后的殘液不斷帶進拋光液中,其拋光液的pH值也是上升趨勢。拋光液pH值的變化,特別是拋光液pH值的升高對玻璃拋光是十分不利的。實際生產中通常選用的拋光液pH值在6～7之間,有利于玻璃的水解,有較高的拋光速率;但也因光學玻璃的材質而有所不同。因此,選擇合適的拋光液添加劑,使拋光液的pH值在較長時間里維持在適當的范圍內,以保證光學玻璃拋光的正常進行是防止光學玻璃在拋光過程中受腐蝕的一個重要措施。為了保證光學零件拋光表面的質量,對那些耐酸性差的光學玻璃,把拋光液的pH值調節在7～8之間。如含BaO較高的光學玻璃,它耐酸性較差,即鋇玻璃的耐堿性較好,所以在弱堿性的拋光液中進行拋光比較合適。對那些耐堿性較差的光學玻璃,把拋光液的pH值調在6～6 5之間。如ZnO含量較高的光學玻璃耐堿性較差,但耐酸性好,所以在呈弱酸性的拋光液中拋光比較合適。以及含TiO2較高的光學玻璃,它耐堿性較差,而耐水性、耐酸性較好,其拋光液的pH值調在6～7之間比較合適。無論冕牌光學玻璃還是火石光學玻璃其拋光液的pH值處于5 8～6 8之間都有較高的拋光速率。當拋光液pH值高于7 5以后,拋光速率明顯下降。這是因為拋光液呈弱酸性時,有利于玻璃的水解進行;其pH值升高以后,甚至達到水解平衡值,玻璃的水解速度減慢,硅酸膠體易于穩定不利于拋光。這是因為:拋光液呈弱酸性時,有利于水解進行,即玻璃中的Na+、K+、Ca++等離子與水中的H+離子發生交換反應,這時玻璃的水解反應對拋光速率起了特殊的促進作用;當拋光液pH值偏堿性時,玻璃中堿金屬的 Na+、K+等離子和堿土金屬Ca++、Mg++等離子不易從玻璃中析出,而阻礙玻璃的水解反應,并直接影響硅酸膠體的穩定性。因為硅膠易溶于堿性溶液,在堿性溶液中就能較穩定的形成膠體狀態。但硅膠不易溶于酸性溶液,這使硅酸膠體雖結成大顆粒沉淀,這樣無疑是對拋光不利的。所以拋光液的pH值高時,則硅膠穩定,不利于拋光。為了使拋光液的pH值穩定在一個合適的范圍內,ReCl3?6H2O、CeCl3?7H2O、 NdCl3?6H2O、La(NO3)3?6H2O、Zn(NO3)2?6H2O都有使弱堿性溶液恢復至中性和弱酸性的能力,其中ReCl3?6H2O和CeCl3?7H2O、Zn(NO3)2?6H2O的效果都很好。在外界堿量大大超過穩定劑中和堿量的情況下,它們仍能控制拋光液的pH值在中性附近?；旌下然⊥?ReCl3?6H2O)加入拋光液中,它不斷水解產生H+離子,中和了玻璃水解而產生的OH-,水解平衡后產生多余的H+離子,因而使得拋光液的pH值維持在中性或弱酸性。鋅鹽(Zn(NO3)2?6H2O)或鋁鹽加入拋光液中,它不僅提高了玻璃的拋光效率,它維護拋光液呈中性作用。除水解產生的H+離子外,還有一個重要作用,就是鋅鹽或鋁鹽在拋光液中有可溶性碳酸鹽時,可促使鋅鹽或鋁鹽的完全水解,生成相應的氫氧化物,

其反應為Zn+CO2+H2O= Zn(OH)2↓+CO2

而Zn(OH)2是一個兩性化合物,當拋光液呈酸性時,表現為弱堿性;當拋光液呈堿性時,則表現為酸性,能起到自動調節pH值的作用。這時由于有下列平衡Zn+++2OH-堿性Zn(OH)2=2H+酸性+ZnO=2Al++++3OH-堿性Al(OH)3=H+酸性+AlO-2+H2O并且它們更具應用的廣泛性,在拋光液中加入一定量的鋅鹽或鋁鹽能使拋光液的pH值接近中性,保持拋光液pH值的穩定性。同時,當拋光液呈現堿性時有ZnO=2或AlO-2存在,還能抑制堿性溶液對光學玻璃的侵蝕作用,并提高了拋光效率,是光學玻璃拋光的良好添加劑。

四、光學玻璃拋光下盤后的處理玻璃對水的親和力大,表面吸濕性強,最容易吸收的便是水。特別是剛剛拋光下盤后的光學玻璃表面留有不飽和化學鍵,具有很高的活性,極易吸收水份并與之發生反應。所以微量的水份及酸性氣體對玻璃表面是十分有害的,化學穩定性差的光學玻璃對此非常敏感。這與在酸性條件下進行拋光的情況是截然不同的。玻璃的吸濕性很強,因此,剛拋光下盤后的光學零件應立即用無水的乙醇、乙醚混合液擦拭干凈,并在紅外燈下烘干,涂上有機硅增水膜層,烘干固化后再涂上中性保護漆。無水乙醇收斂玻璃表面水份的能力較強,有無水乙醚的存在也極易揮發;烘干后,除去玻璃表面的濕存水,否則即使很高的烘烤溫度也難以除去玻璃表面的水份。硅有機化合物或其單體能在玻璃表面形成有機基團和硅氧烷群結合的有機硅氧薄膜和聚合硅氧膜[SiO2]n。O SiRROSiRRO 在玻璃表面產生一定的烷基定向效應,形成一種有機硅氧膜。這種憎水膜可以借助于玻璃硅有機化合物的公共硅氧鍵而聯結起來,起到屏障保護作用。即SiROOOSiROOSiROO玻璃表面光學玻璃拋光下盤后使用的憎水膜,一般為三烷基氧基硅烷[R3Si(OR′)],使親水的玻璃表面改變成憎水的玻璃表面,阻止空氣中的水份或酸性氣體的侵蝕?；谝陨蠙C理,采用十二烷基三甲氧基硅烷(49#防霧劑)配成適當濃度的無水乙醚溶液作為光學零件的防腐蝕材料.十二烷基三甲氧基硅烷經逐步水解縮合,產生如下反應C12H25Si(OCH3)3 +nH2OC12H25SiOHOHOH+3CH3OH它具有長鏈的烷基C12H25—,有一定的定向效應,能在玻璃表面形成緊密的烷基覆蓋層。同時也具有SiOHOHOH硅醇結構,能與玻璃表面起化學反應,經充分交聯使膜層牢固的結合起來,有效的阻止空氣中的水份或酸性氣體的侵蝕。光學玻璃拋光下盤以后涂中性保護漆。除有上述的補充作用外,主要是為了保護玻璃拋光表面免受擦傷。但一般保護漆具有酸性(如蟲膠漆)或溶劑具有毒性(如苯、香蕉水等)或腐蝕玻璃或對操作人員有害。我們研制的中性保護漆避免了上述缺點。它是以熱塑性酚醛樹脂為成膜物質,添加聚乙烯醇縮丁醛和硅有機化合物以改善酚醛樹脂的脆性和吸濕性。用無水乙醇為溶劑,配制成適當濃度,便于涂敷和成膜,形成膜層對玻璃拋光表面有較好的附著性和防護能力,并便于清洗。 _hq.R)r 0h

五、結束語

從玻璃的腐蝕機理出發,依照光學玻璃在拋光過程中的化學作用,對ZK、ZF、ZBaF、LaK等化學穩定性差的光學玻璃在其拋光液中添加適當的pH值調節劑及表面穩定劑,在拋光過程中抑制玻璃腐蝕的可能性。使這幾種光學玻璃拋光表面一次合格率從0%～10%左右分別提高到75%～85%左右。即使在高溫高濕條件下,其一次合格率也能穩定在75%以上。同時提高拋光速率近2倍;并提高玻璃拋光表面的粗糙度及“亮度”。拋光下盤以后,可存放數天或10多天時間,便于零件運轉和下道工序加工。在拋光下盤以后,再作若干補充防護措施,更為可靠。這項有理論、有實踐、可操作的對化學穩定性差光學玻璃拋光過程中的防護措施,進一步提高了光學冷加工的效率和效益及其工藝技術水平。

拋光常見疵病產生原因及克服方法

印跡

1)拋光模與鏡盤吻合不好出現油斑痕跡

2)玻璃化學穩定性不好

3)水珠、拋光液、口水沫等未及時擦拭干凈

克 服 方 法

1)選用合適的拋光膠,修刮或對改(聚胺脂)拋光模使之吻合

2)拋光中產生的印跡可以選用適當的添加劑;而完工后產生的印跡可以保護

3)避免對著工件講話,如下盤擦不干,應擦凈,對化學穩定性不好玻璃還應烘

光圈變形

1)粘結膠粘結力不適

2)光圈未穩定既下盤

3)剛性盤加工時,剛盤使用時間較長未檢測(沉孔臟或變形)

4)剛性盤加工時被加工工件外圓偏大,上盤方法不當等

克 服 方 法

1)光圈變形主要發生在較薄的零件或不規則的零件,應采用適當的上盤方法

2)應按工件大小給予一定的光圈穩定時間

3)剛盤定期進行檢測和修正

4)嚴格按工藝和上盤操作規程加工

麻點

產 生 原 因

1) 精細磨、拋光時間不夠

2) 精細磨面立不均勻或中間與邊緣相差大

3)有粗劃痕拋斷后的殘跡

4)方形或長方形細磨后塌角

5)零件在鏡盤上由于加工造成走動

6) 精細磨面形誤差太大,尤其是偏高,易造成邊緣拋光不充分

7) 拋光模加工時間過長或拋光液使用時間長而影響拋光效率

克 服 方 法

1) 精細磨應除去上道粗砂眼, 拋光時間應足夠

2) 精細磨光圈匹配得當,應從邊緣向中間加工

3)發現后應作出標識單獨擺放或重拋

4)用開槽平模細模、添加砂要均勻

5)選用適當的粘結膠，控制工序溫度和鏡盤忽冷忽熱, 粘結膠厚度應符合標 準

6)精細磨各道光圈匹配應嚴格按工藝操作指導卡操作

7)更換拋光皮及拋光液的各項指標(比重、PH值等)周期性管理

劃痕

產 生 原 因

1)拋光粉粒度不均勻或混有大顆粒機械雜質

2)工房環境不潔凈

3)拋光材料(拋光膠或聚胺脂及粘貼膠等)不潔

4)擦布不潔及操作者帶入灰塵

5)精細磨遺留劃痕未拋掉或清洗不徹底

6)檢查光圈工件或樣板不干凈、方法不當

7)拋光材料(拋光膠或聚胺脂)偏硬、使用時間長表面起硬殼或邊緣有干硬堆積物

8)拋光模與鏡盤不吻合

9)輔助工序(下盤、清洗、周轉、保護漆未干等)造成

克 服 方 法

1)選用粒度均勻和與玻璃材料對應拋光粉

2)做好“5S”工作

3)保管好所需用品

4)擦布清洗保管及操作者穿戴好工作服和帽子

5)應自檢

6)正確使用樣板

7)選用合適拋光材料(拋光膠或聚胺脂)，周期更換，對改或修刮拋光模

8)對改或修刮、重新制作拋光模

9)按各輔助工序操作規程加工

光學冷卻液在光學加工中的作用

在光學冷加工中，使用冷卻液的目的是對金剛石磨削工具進行冷卻，以帶走光學玻璃加工過程中的熱量，保證光學冷加工的順利進行，但對這一目的，在使用水或其它有機液體作為冷卻介質后，基本上都可以達到要求，尤其是使用水介質，成本低廉，冷卻效果也十分理想。但是如果在光學冷加工中用自來水來冷卻，可以肯定地說，其加工是低效率的，因為金剛石工具無法發揮其最大的工作效率，因此冷卻液的核心作用是與金剛石工具協調作用，保證金剛石工具能將自身的磨削效能發揮到極至，同時較高質量的冷卻液還能帶來高質量的加工表面，減少對光學玻璃的浸蝕，降低拋光后水印和霉菌的產生。當然好的冷卻液還應該具有較好的緩蝕性能，沒有氣味和不污染環境及其它影響健康的不利因素。

1 光學冷卻液的緩蝕性能

水與光學冷加工設備接觸后，將直接導致設備的銹蝕，因此冷卻液的緩蝕性能是冷卻液最基本的技術要求。根據光學冷加工設備常用的材料，應該對鑄鐵、普通鋼板、鋁件或銅件具有緩蝕作用。質量較差的冷卻液往往會加速設備腐蝕，降低冷加工設備的使用壽命，從而增加生產成本。

2 光學冷卻液對金剛石工具的致銳性能

為了使光學冷卻液具有我們所需要的性能，我們在自來水中加入了某些特性物質，比如一定量的金屬緩蝕劑，表面活性劑，適宜的潤滑劑等物來組成冷卻液的配方，它們的引入往往會帶來我們不需要的一些現象，比如：泡沫、氣味、對皮膚的過敏或刺激、對設備的腐蝕、毒性等，這些現象的強弱或大小，直接影響了冷卻液的綜合性能。

2.1 光學冷卻液在冷加工中與金剛石磨具的協調作用

高效光學冷加工一般分為銑磨(粗磨)，精磨，和拋光三個階段，各階段所采用的工藝參數、輔料直接影響了光學加工的效能。在銑磨(粗磨)，精磨或超精磨過程中，冷卻液的作用不可小覷。

用金剛石銑磨輪或鉆石粒(丸片)加工光學玻璃一般分為三個階段，即預磨、主磨削和光刀階段。根據各個階段的目的，冷加工設備由繼電器控制調壓閥來調節氣壓的大小和磨削時間。在預磨階段，由于磨具與玻璃之間吻合不好，施與低壓可防止沖擊而使金剛石磨盤的丸片脫落或使鏡盤工件打壞。在這一階段，由于金剛石工具與被加工光學元件處于低壓接觸磨削狀態，此時金剛石對光學玻璃的磨削量很小，而同時，粗糙的玻璃表面對金剛石工具基體也產生磨削，作用的結果就是在金剛石工具的工作面上形成一個破壞層，這個破壞層由鑲嵌在基體中的金剛石小顆粒、合金基體的小突起和被吸附的基體粉末、金剛石粉、玻璃粉等。此階段是金剛石工具被致銳的階段，也是冷卻液發揮作用的主要階段，在此階段，冷卻液的作用是使吸附在工具表面的金屬基體微小顆粒和玻璃粉脫離工作面，從而增加了金剛石露出基體的高度，為主磨削作好準備。在主磨削階段，由于光學玻璃粗糙度逐漸變小，它與金剛石工具的接觸面積增大，在主磨削高壓擠壓磨削狀態下，在工作面將產生高熱量，此時，磨具工作面由于壓力和熱量的作用，在預磨階段產生的金屬基體小突起將產生塑性變形，突出基體的金剛石微粉也被擠壓而產生位移，被塑性變形的基體金屬重新包覆起來，在預磨階段被吸附的基體顆粒有可能被重新熔入基體，增加了金剛石微粉被包覆的程度，這種現象某些文獻將之稱為金剛石工具的 “膩塞”，導致的結果就是金剛石工具的切削力下降。在光刀階段，壓力變小，光學件表面粗糙度得到進一步的降低。

2.2 冷卻液在磨削中與金剛石工具的協同作用

根據上述分析，冷卻液最主要的作用就是將在精磨預磨階段產生的基體粉末最大量地吸附或溶解到冷卻液中，從而減少金剛石工具的 “膩塞”現象，以保證金剛石工具的切削力，如何達到這個目的呢?通常的看法有：

一是化學絡合(配合)

在磨削過程中由于熱量和空氣的作用，基體金屬有部分原子被氧化變為金屬離子，適宜的絡合劑會與這些離子被絡合而脫離磨具工作面。

二是化學腐蝕

從理論上講，有一定的道理，但是，它往往還與化學反應的速率有關，應該說，它只起到輔助作用，因為，相較于機械摩擦來說，受所選用的化學物質的限制，它的反應速率要慢得多。

然而上面的兩種認識往往難于使冷卻液達到所需要的性能，更深層次的認識是解決光學冷卻液切削性能的技術核心。

2.3 冷卻液中化學物質的選用與作用

作為冷卻液配方物質的選擇，其原則是：無毒、無味、不起跑(或低泡)，對皮膚刺激較小，對環境無污染，當然這只是一種原則，因為為了兼顧材料的使用性能，往往難于達到每種材料都能滿足我們的要求，試驗中往往以綜合性能來對選用物質進行取舍。

2.4 冷卻液的壽命`

冷卻液在精磨加工中，切削力會緩慢下降，直到不能滿足加工要求。連續加工的時間或加工的玻璃件數就是冷卻液的壽命。切削力的下降可以理解為有效物質的消耗，從而使其作用下降。光學冷卻液的使用壽命是衡量冷卻液性能的另一個重要標準。 

3 結論

光學冷卻液在光學冷加工中具有十分重要的作用，其選用直接影響了光學冷加工的效能，最高性價比是選用光學冷卻液的最重要的原則。

金剛砂

1891年，美國人阿切遜將粘土和焦炭混合后放在一個鐵缽中，企圖用電弧將碳轉化為金剛石。但結果是，在電極附近發現了閃閃發光的六方形晶體，它與天然金剛石的立方八面體不同。阿切遜認為這可能是碳和粘土中的氧化鋁反應而生成的新化合物。由于自然界中有一種氧化鋁礦物稱為剛玉，于是他把碳和剛玉兩個英文單詞連起來作為這一新化合物的名稱，中國學者將其譯成“金剛砂”。后來人們知道這種化合物是由粘土中的二氧化硅與碳在高溫下反應生成的碳化硅。

晶胞為面心立方結構，每個晶胞含有4個C原子4個Si原子。與金剛石結構類似。

碳化硅硬度僅次于金剛石、碳化硼和立方氮化硼，在無機材料中排行第四。目前已能通過熱壓燒結法制得高致密度的碳化硅。它具有很高的強度及良好的抗氧化性能，在高溫下不變形，可作為高溫燃氣輪機上的渦輪葉片，也可作耐磨的密封材料，還可作火箭尾噴管的噴嘴及輕質的防彈用品等。

金剛砂，SiC，學名碳化硅。純的是無色晶體。密度3.06～3.20。硬度很大，大約是莫氏9度。一般的是無色粉狀顆粒。磨碎以后，可以作研磨粉，可制擦光紙，又可制磨輪和砥石的摩擦表面。由砂和適量的碳放在電爐中加強熱制得。

天然金剛砂又名石榴子石，系硅酸鹽類礦物。經過水力分選，機械加工，篩選分級等方法制成的研磨材料。生產使用歷史悠久，古代我國就有使用金剛砂研磨水晶玻璃，各種玉石的史例。十九世紀四十年代又遠銷東洋。分粗目，中目，細目三大類。其中粗目為黑紅色，中目為淡紅色，細目為紅白色，各種目數粒度均勻，顆粒形狀均一，成棱叫角晶體，有鋒利的邊緣，磨削力高。供石材類工業研磨大理石及其它軟質材料。玻璃類工業研磨玻璃毛邊，電視機顯像管，光學器械，鏡片，棱鏡，鐘表用玻璃等。金屬類工業噴砂，除銹，研磨。印刷工業研磨膠版，以及輕工業加工塑樣，皮革，砂紙等用途。

用途：

(1)對硅片、光學鏡頭 、精密儀器儀表、拋光玻殼、玻璃器皿、陶瓷石料、皮革、塑料、金屬機件能提高光潔度

(2)可噴砂切割，是制造砂輪、油石、砂布、砂的必須原料

(3)可作為修筑高速公路路面、飛機跑道、耐磨橡膠、工業地坪.防滑油漆等尚佳的耐磨材料

(4)可作化工、石油、制藥、水處理過濾的介質和鉆井泥漿加重劑。

(5)對電鍍、核污染的防護具有良好的效果

(6)是水洗廠牛仔服噴砂車間用砂.水切割行業優質的配砂

天然金剛砂的磨削力略低于電爐白剛玉，但其任性強，具有介殼狀段口之特性，其優點是磨件的光潔度高，砂痕少而淺。磨面細而均勻，可提高產品質量，為本品的獨特之處。天然金剛砂的研磨時間短，效益高，價格低廉，可彌補壽命短的不足。

測定礦物的硬度，通常是把兩種礦物對劃，看那種礦物被劃傷，以此來確定礦物的硬度。具體做法是選擇10種“標準礦物”，先用互相刻劃的方法分別確定出1～10個硬度等級，以后便用這些標準礦物來刻劃待測礦物，通過比較來確定后者的硬度。硬度1為最軟，硬度10為最硬。用這種方法測定的硬度，按照提出此方法的科學家的姓氏，叫做“莫氏硬度”。如果沒有特別說明，談到硬度，多半指的就是“莫氏硬度”。

另外也有用絕對標準來測定礦物的絕對硬度的方法，例如“努普硬度”。這種方法是在尖形金剛石的上方加上重量，用尖頭擠壓待測礦物，然后測量在礦物表面所形成的壓痕的大小和所施加的壓力(單位為千克/毫米^2，通常表示為“HK”)。由于這種方法測出的是絕對硬度，所得的數值增加一倍，硬度也增加一倍。不過，這種測定硬度的方法對所測礦物有較大損傷，一般不大使用。

鉆石的硬度為10~

光學清洗工藝

影響清洗的因素：

A，清洗工藝的技術關鍵：光學玻璃經過清洗后能否達到表面不留任何油污，污跡，表面光滑，水膜完好!

B，影響清洗后玻璃質量的因素及相應的解決方法：

(1)玻璃本身的質量及被污染的情況，主要為：表面有霉點，氣泡，劃傷等，在機械處理中，如：研磨，搽試，測應力時，人為導致的污染情況不一;

(2)清洗劑的選擇其能動及溫度，水質;

國際上應用最廣的清洗劑為CFC-113，四氯化炭，1-1-1三氯乙烷(簡稱ODS)等，此類清

洗劑對臭氧層有破壞，屬于非環保性清洗劑;我們采用非ODS的水類堿性清洗劑，主要由水，堿，表面活性劑，防銹材料組成，化學式C3H8，具有側鏈的環狀烯烴，具有較強的溶油能力;特點：低毒，不燃，清洗成本低等特點;

(3)溶液的濃度直接影響清洗度的大小;

通常清洗液的PH值一般在8.5-12之間，若PH值大于10，側表面活性物質作用要削弱，當PH

值大于12時，側清潔度下降。在實際使用中發現當溶液濃度過大，超過15%，清洗效果不好

，不易漂洗，而濃度約為4%-7%時，側清洗效果較佳。

(4)溶液溫度及浸泡時間也同樣影響去污效率;

當溫度上升，溶液的反應速度也上升，污染物的粘度下降，便于污染物脫離，但溶液的穩定

度下降。實際發現溶液溫度50度，浸泡30分鐘后，清洗效果最好!

(5)在清洗過程中，還應注意必須使用純水或去離子水，若使用自來水等硬水側很難除去玻璃上的油污，且水中所含的Ca,Na離子等雜質會在烘干后的玻璃表面形成一層白色霧狀膜，污染玻璃;

(6)玻璃經清洗后需漂洗，漂洗后的清潔度，除與清潔劑的漂洗性和清洗液中的清潔劑濃度有關外，還與漂洗工序的多少，漂洗供水量的大小，溫度及循環使用的純水是否干凈有關;

(7)清洗環境的清潔程度;

(8)清洗后的干燥工藝及溫度：

應盡量保證玻璃垂直，可在玻璃下墊陶瓷柱，避免烘干后玻璃下沿有水印;烘箱溫度控制在70度左右，時間在20分鐘左右。若溫度過高，會在玻璃邊角上產生花紋

在光學冷加工中，鏡片的清洗主要是指鏡片拋光后殘余拋光液、黏結劑、保護性材料的清洗;鏡片磨邊后磨邊油、玻璃粉的清洗;鏡片鍍膜前手指印、口水圈以及各種附著物的清洗。傳統的清洗方法是利用擦拭材料(紗布、無塵紙)配合化學試劑(汽油、乙醇、丙酮、乙醚)采取浸泡、擦拭等手段進行手工清擦。這種方法費時費力，清潔度差，顯然不適應現代規?；墓鈱W冷加工行業。這迫使人們尋找一種機械化的清洗手段來代替。于是超聲波清洗技術逐步進入光學冷加工行業并大顯身手，進一步推動了光學冷加工業的發展。

超聲波清洗技術的基本原理，大致可以認為是利用超聲場產生的巨大作用力，在洗滌介質的配合下，促使物質發生一系列物理、化學變化以達到清洗目的的方法。

當高于音波(28～40khz)的高頻振動傳給清洗介質后，液體介質在高頻振動下產生近乎真空的空腔泡，空腔泡在相互間的碰撞、合并、消亡的過程中，可使液體局部瞬間產生幾千大氣壓的壓強，如此大的壓強使得周圍的物質發生一系列物理、化學變化。這種作用稱為"空化作用"：

1.空化作用可使物質分子的化池鍵斷裂，引起各種物理變化(溶解、吸附、乳化、分散)和化學變化(氧化、還原、分解、化合)等。

2.當空腔泡的固有頻率和超聲頻率相等時，可產生共振，共振的空腔泡內聚集了大量的熱能，這種熱能足以使周圍物質化學鍵斷裂而引起物理、化學變化。

3.當空腔泡形成時，兩泡壁間因產生極大的電位差而引起放電，致使腔內氣泡活化進而引起周圍物質的活化，從而使物質發生物理、化學變化。

超聲場為清洗提供了巨大的能量，但還需化學洗劑作為介質。一般將化學洗劑分為兩類，一類是有機溶劑，主要是根據相似相溶的化學原理，對有機物如：黏結劑(瀝青、松香等)、保護性材料(瀝青、樹脂等)、磨邊潤滑油進行溶解。在光學洗凈中，最初用三氯乙烯、芳香烴、氟里昂等作為清洗劑，這類物質雖然溶解性強，但有的易揮發，毒性大，有的對大氣臭氧層有破壞作用，被逐步禁用?，F國內多采用一些上述物質的改進產品或某些碳氫化合物做溶劑。目前使用較多的另一類清洗劑是以表面活性劑為主要成分的水基清洗劑，其清洗原理簡單地說是由于表面活性劑的分子結構中同時含有親油基的親水基，具有極性和結構不對稱的特點。正是這種特點使得它能極大降低水溶液的表面張力，使物體表面易于潤濕，表面污物易于被溶解，分散在清洗液中而達到洗滌的目的。

超聲波清洗就是在液體清洗介質中，利用超聲場產生的巨大能量，通過物理、化學的綜合作用而達到洗凈目的的一種洗凈手段。

那么，在光學冷加工中，超聲波清洗是如何實現洗凈目的的呢?一般來說，清洗工藝主要以干燥的方式命名，如ipa工藝，是指利用ipa(異丙醇)蒸汽進行脫水干燥的清洗工藝，純水工藝是指利用熱純水慢提拉或冷純水甩干的方式進行干燥的清洗工藝。當然，還有其他的命名方式。經過不斷的變化、發展，光學冷加工中的清洗工藝主要以ipa工藝和純水工藝為主。

ipa工藝包括四個流程：洗滌、漂洗、脫水、干燥。

因為洗滌過程分溶劑清洗和水基清洗，所以有不同的工藝：有先進行溶劑清洗、溶劑蒸汽干燥再進行水基清洗;也有先進行溶劑清洗，再用乳化劑溶解溶劑，再進行水基清洗的。顯然，后者在流程上更流暢、緊湊，對設備要求也簡單。經過洗滌后的鏡片表面不會有結合牢固的污垢，僅可能有一些清洗劑和松散污垢的混合物。

我們知道，無機光學玻璃是一種過冷的熔融態物質，沒有固定的分子結構，它的結構式可描述為二氧化硅和某些金屬氧化物形成的網狀結構。其骨架結構為鍵能很大的硅氧共價鍵，外圍是鍵能小、易斷裂的氧與金屬離子形成的離子鍵。在洗滌時，由于超聲場和化學洗劑的共同作用，某些硅氧鍵含量少或者外圍鍵能特別小的的材料易于在清洗過程中發生變化而導致洗滌效果不良。所以，選擇性能溫和的洗劑、合適的洗劑濃度、溫度、超聲功率、洗滌時間對保證鏡片的清洗質量十分重要。

利用流水將洗滌后鏡片表面的洗劑和污物溶解、排除的過程稱為漂洗。影響漂洗效果的因素有以下幾個：洗劑的漂清性能，漂洗水的純度、溫度以及流動性、超聲波頻率等。一般在40khz時，在常溫下，電導率為0.1μs/m的純水可以保證漂洗的要求。

經過漂洗后的鏡片表面的潔凈度應和漂洗水潔凈度一致。當它進入ipa后，雖然ipa能和純水進行無限度的相混溶，但在超聲波的作用下，這種混溶能進行得更快速、徹底，從而使得鏡片表面的狀態和混溶后ipa相同。這一過程稱為脫水。所以影響脫水的主要因素是ipa的純度、超聲波頻率、脫水時間。一般ipa的最低濃度要高于97%。

脫水后的鏡片進入ipa蒸汽槽干燥。蒸汽槽的結構大體如下：槽體下部為ipa液體，四周是高沸點油加熱腔，上部是由若干圈冷凝管圍繞成的冷凝區，冷凝管內是由冷水機提供的循環冷水，鏡片由鏈條驅動的托架帶動在干燥槽內運行。干燥的原理及過程如下：蒸汽槽ipa在高溫油的加熱下沸騰，蒸汽向上進入冷凝區，在冷凝區形成濃度、溫度相對穩定的蒸汽區，脫水后表面附有液體ipa的鏡片進入蒸汽區時，蒸汽區的蒸汽在低溫的鏡片表面冷凝液化，沖刷鏡片表面，如同"淋浴"，當鏡片表面溫度和蒸汽溫度相同時，已不再附有液態ipa，而全轉化為ipa。此時，鏡片在托架的帶動下上升回到冷凝區，在這一過程中，由于溫度的漸低，鏡片表面ipa蒸汽冷凝液化，液化的ipa一部分在表面張力和重力的作用下離開鏡片，一部分在夾具散熱時揮發離開鏡片表面，經以上過程后，鏡片表面得到干燥。由此可見，影響干燥的因素很多：ipa的純度、干燥位置、鏈條的提升速度、冷水機的水溫、冷凝行程的長短、干燥時間、夾具材料、形狀的選用等等。

以上是ipa工藝的四個流程簡介，純水工藝由三個流程組成：洗滌、漂洗、干燥。洗滌和漂洗與ipa工藝相同，不再重復。區別在于干燥。干燥分兩種情況，熱純水慢提拉和冷純水甩干。

電阻率大于15mω·m純水在某一高溫下，表面張力能達到最大，漂洗后的鏡片浸入其中，表面不被潤濕，在傾斜慢提拉離開時，由于極大的表面張力。純水迅速在表面收縮成球形離開鏡片，脫水后的鏡片在過濾的熱風下而達到干燥。所以，水的純度、溫度、慢提拉速度、工件的傾斜度、熱風的潔凈度對干燥的影響非常大。

冷純水甩干的工藝很簡單：經過純水漂洗后的鏡片放入離心甩干機中，在工件取得平衡時，啟動甩干機，利用離心分離的原理將鏡片表面的純水分離達到干燥，對要求不高的鏡片能取得滿意效果，且能節省ipa和場地。但對甩干機的平衡性能要求很高。

以上是對光學冷加工中超聲波清洗工藝的一些簡介，實現工藝的載體是設備，一臺設計合理、性能穩定的超聲波清洗機能充分發揮超聲波清洗工藝的特長。

鍍膜過程中噴點、潮斑(花斑)的成因及消除方法

真空鍍膜的過程中有時會產生噴點及潮斑(花斑)，這些噴點、潮斑(花斑)極大的影響了薄膜的品質，降低產品的合格率。本文將對噴點、潮斑(花斑)的形成原因以及消除方法作一探討。

一.噴點形成的原因

鍍膜過程中產生噴點主要有以下幾種原因:

1. 鍍膜材料純度不高，含雜質較多,預熔過程中無法將這些雜質去除,蒸鍍過程中雜質濺上工件表面形成噴點。

2. 材料較為潮濕,預熔時電子槍光斑不能將表面的材料全部熔化,在蒸鍍過程中也容易產生噴點(這種情況在用國產電子槍鍍制MgF2及一些直接升華的材料時較易發生)。

3. 鍍膜前對材料進行預熔時不夠充分,蒸鍍過程中材料里的細小顆粒濺上工件表面形成噴點。

4. 鍍膜過程中,電子槍束流過大引起的材料飛濺產生的噴點。

二.潮斑形成的原因:

1. 清洗液配比不好,含有較多水份,清洗后工件表面留有殘跡,鍍膜后形成花斑。

2. 鍍制兩個面以上的工件時,一面鍍制完成,清洗第二面時,鍍制完的一面受到污染,在第二面鍍膜后形成花斑。

3. 工件本身含有的水份(工件白片制作過程細解),在蒸鍍前的烘烤過程中逸出,蒸鍍后形成潮斑。

4. 鍍膜夾具在烘烤過程中會有水汽以及其它廢氣排出,蒸鍍后在工件表面形成潮斑且對鍍膜后的光學特性產生影響。

針對以上噴點、潮斑(花斑)的成因,在生產中采取了以下一些措施以消除噴點、潮斑(花斑):

1. 選擇可靠的材料供應商,并對購買的每批材料在投入使用前先做一測試,判定材料的可靠性。

2. 規范材料的領用、保管,(干燥缸,干燥劑)保證材料不受潮,材料性質無變化。

3. 規范鍍膜操作,嚴格執行預熔、蒸鍍的操作規程。蒸鍍前的材料預熔一定要徹底,鍍制某些較厚的膜層時可以采用多次預熔的方法消除噴點。

4. 規范清洗操作,加強清洗后的檢查,提高清洗質量,消除因清洗而產生的潮斑(花斑)。

5. 調整烘烤溫度,消除烘烤原因產生的潮斑。

6. 規范鍍膜夾具的管理。每次投入使用前,夾具需要先經過清洗、烘烤(300度,3小時以上)才能投入生產。

7. 設計鍍膜夾具時,盡量采用在真空室內放氣量小的材料,同時可采取夾具表面鍍Ni的方法降低夾具的放氣量,消除由此產生的潮斑(花斑)。

通過以上這些措施,鍍膜過程中產生的噴點、潮斑(花斑)可以得到非常有效的控制。