硒化鋅(ZnSe)激光元件
產品介紹:硒化鋅材料是一種黃色透明的多晶材料, 結晶顆粒大小約為70μm, 透光范圍0.5-15μm。由化學氣相沉積(CVD)方法合成的基本不存在雜質吸收, 散射損失極低。由于對10.6μm波長光的吸收很小, 因此成為制作高功率CO2激光器系統中光學器件的材料。 此外在其整個透光波段內, 也是在不同光學系統中所普遍使用的材料。
- 型 號: 定制
- 規 格: 定制
- 材 料: 光學玻璃
產品介紹:硒化鋅材料是一種黃色透明的多晶材料, 結晶顆粒大小約為70μm, 透光范圍0.5-15μm。由化學氣相沉積(CVD)方法合成的基本不存在雜質吸收, 散射損失極低。由于對10.6μm波長光的吸收很小, 因此成為制作高功率CO2激光器系統中光學器件的材料。 此外在其整個透光波段內, 也是在不同光學系統中所普遍使用的材料。
硒化鋅材料是一種黃色透明的多晶材料, 結晶顆粒大小約為70μm, 透光范圍0.5-15μm。由化學氣相沉積(CVD)方法合成的基本不存在雜質吸收, 散射損失極低。由于對10.6μm波長光的吸收很小, 因此成為制作高功率CO2激光器系統中光學器件的材料。 此外在其整個透光波段內, 也是在不同光學系統中所普遍使用的材料。硒化鋅材料對熱沖擊具有很高的承受能力, 使它成為高功率CO2激光器系統中的光學材料。硬度只是多光譜級ZnS的2/3, 材質較軟易產生劃痕, 而且材料折射率較大, 所以需要在其表面鍍制高硬度減反射膜來加以保護并獲得較高的透過率。在其常用光譜范圍內, 散射很低。在用做高功率激光器件時, 需要嚴格控制材料的體吸收和內部結構缺陷, 并采用最小破壞程度的拋光技術和光學質量的鍍膜工藝。
?透射波長范圍廣
?高透射率
?耐高溫
?散射損失低
廣泛應用在數碼影像、舞臺燈光系統、醫學檢測儀器、指紋識別應用、人臉識別考勤儀、美容儀器、虹膜識別系統應用、光纖照明、光學儀器等。 指紋識別機、CMOS芯片彩色攝像機、ccd芯片彩色攝像機、安防攝像機光敏電阻黑白切換擋光片、安防監控器(CCTV)攝像頭、網絡攝像機、電子玩具攝像頭、可視電話、可視門鈴等設備上。
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